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J-GLOBAL ID：200903046647123991

周辺露光装置およびそれを備えた基板処理装置

Inventor： 稲垣 幸彦
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995302944
Publication number (International publication number)：1997148220
Application date： Nov. 21, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】 小型化が図れ、しかも他の基板処理ユニットとの組合せが容易な周辺露光装置を提供することである。【解決手段】 周辺露光装置1は、枠体5の内部に露光部2、紫外線照射部3、および電装部4を設けている。紫外線照射部3の上部に露光部2が配置されている。ライトガイド6は、紫外線照射部3の出射口から上方に延び、その先端にレンズ鏡筒7が接続されている。露光部2および紫外線照射部3に必要な電力、信号等の各伝送路は、外部から電装部4に引き込まれた後、露光部2および紫外線照射部3に分配される。周辺露光装置1は、ユニット化されており、他の基板処理ユニットと上下方向に積層配置することができる。

Claim (excerpt)：

基板の周辺部に対して露光処理を行う周辺露光装置において、露光処理のための光を発生する光源と、前記光源からの光を受けて前記基板の露光処理を行う露光部とを一つの枠体の内部に設けたことを特徴とする周辺露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26

FI (2)：

H01L 21/30 577 ,  G03F 7/26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 周辺露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-040616   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平4-283726
  
• 地形変位検出センサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-195257   Applicant：日本航空電子工業株式会社
• 特開平4-283726
  

Cited by examiner (4)

• 周辺露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-040616   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平4-283726
  
• 特開平4-283726
  
• 地形変位検出センサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-195257   Applicant：日本航空電子工業株式会社