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J-GLOBAL ID:200903046689418614

シリカ微粉末の製造方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 熊倉 禎男 ,  小川 信夫 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  平山 孝二 ,  松田 七重
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006167113
Publication number (International publication number):2006282505
Application date: Jun. 16, 2006
Publication date: Oct. 19, 2006
Summary:
【課題】高純度かつ高比表面積のシリカ微粉末を容易に製造すること。【解決手段】二重管構造の燃料ガス-酸素ガス混合型バーナーの中心部に設けられた二流体ノズルの中心から、珪素質原料と水を含むスラリーを噴射するとともに、二流体ノズルの周囲から酸素を噴射して熱処理を行った後、速やかに酸素を含む雰囲気中で冷却し、微粒子を捕集することを特徴とするシリカ微粉末の製造方法及び装置。この発明においては、(1)珪素質原料のSiをSiO生成経由でシリカに転換させること、(2)珪素質原料と水を含むスラリーの固形分濃度が20〜60重量%であること、(3)珪素質原料と水を含むスラリーの水の30重量%までをアルコールで置き換えること、などから選ばれた少なくとも一つの実施態様を有していることが好ましい。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
二重管構造の燃料ガス-酸素ガス混合型バーナーの中心部に設けられた二流体ノズルの中心から、珪素質原料と水を含むスラリーを噴射するとともに、二流体ノズルの周囲から酸素を噴射して熱処理を行った後、速やかに酸素を含む雰囲気中で冷却し、微粒子を捕集することを特徴とするシリカ微粉末の製造方法。
IPC (1):
C01B 33/18
FI (1):
C01B33/18 Z
F-Term (16):
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072GG01 ,  4G072GG04 ,  4G072HH01 ,  4G072HH14 ,  4G072JJ02 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL01 ,  4G072MM01 ,  4G072RR11 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072UU07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)

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