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J-GLOBAL ID：200903046763073373

静電吸着電極装置

Inventor： 小倉 毅勇 ,  尾藤 陽二
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 宮井 暎夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997177072
Publication number (International publication number)：1999026563
Application date： Jul. 02, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 静電吸着電極の外周部やフォーカスリングへ堆積物が堆積することを抑制、防止する。【解決手段】 ウエハ1を設置する静電吸着電極2と、ウエハ1を吸着させるために直流高電圧を静電吸着電極2に印加する直流高電圧電源5と、ウエハ1を冷却するためにウエハ1の裏面に冷却用ガスを導入するための機構と、ウエハ1の外周に配置され静電吸着電極2を保護するフォーカスリング3と、このフォーカスリング3の近傍でガスを吹き出す機構とを備えた。冷却用ガスをフォーカスリング3に向け吹き付ける構成とすることにより、反応生成物の中で蒸気圧の低い副生成物9が静電吸着電極2の外周部やフォーカスリング3に堆積することを防止できる。そのため、ウエハ1が静電吸着電極2表面に密着し、ウエハ1温度を安定した状態に制御できる。

Claim (excerpt)：

ウエハを設置する静電吸着電極と、前記ウエハを吸着させるために直流高電圧を前記静電吸着電極に印加する直流高電圧電源と、前記ウエハを冷却するためにウエハの裏面に冷却用ガスを導入するための機構と、冷却用ガスの流量および圧力あるいはその両方を調節する機構と、前記ウエハの外周に配置され前記静電吸着電極を保護するフォーカスリングと、このフォーカスリングの近傍でガスを吹き出す機構とを備えた静電吸着電極装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15

FI (2)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-273139   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特公平7-027959