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J-GLOBAL ID：200903046769602459
レジスト用剥離液組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 洋子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995276504
Publication number (International publication number)：1997096911
Application date： Sep. 29, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：
【要約】【課題】 より過酷な条件のドライエッチング、アッシング、イオン注入等の処理により形成された変質膜の剥離性に優れ、AlまたはAl合金が形成された基板、あるいはTiが形成された基板の両者に対する腐食防止効果に優れたレジスト用剥離液組成物を提供する。【解決手段】 (a)ヒドロキシルアミン類2〜30重量%、(b)水2〜35重量%、(c)25°Cの水溶液における酸解離定数(pKa)が7.5〜13のアミン類2〜20重量%、(d)水溶性有機溶媒35〜80重量%、および(e)防食剤2〜20重量%からなるレジスト用剥離液組成物。
Claim (excerpt)：
(a)ヒドロキシルアミン類2〜30重量%、(b)水2〜35重量%、(c)25°Cの水溶液における酸解離定数(pKa)が7.5〜13のアミン類2〜20重量%、(d)水溶性有機溶媒35〜80重量%、および(e)防食剤2〜20重量%からなる、レジスト用剥離液組成物。
IPC (5)：
G03F 7/42
, C11D 7/32
, C11D 7/50
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
G03F 7/42
, C11D 7/32
, C11D 7/50
, H01L 21/304 341 L
, H01L 21/30 572 B
