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J-GLOBAL ID：200903046827456867

無定形SiNC被膜を蒸着する方法

Inventor： マーク ジョン ロボダ
Applicant, Patent owner： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996287998
Publication number (International publication number)：1997186153
Application date： Oct. 30, 1996
Publication date： Jul. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ケイ素、炭素及び窒素を含む無定形シラン被膜を与える新規な化学蒸着法を提供する。【解決手段】 有機ケイ素物質及び窒素源を含む反応性ガス混合物を、被覆されるべき基体を含む蒸着室中に導入し、反応を起こさせて被膜を形成する。

Claim (excerpt)：

次のことを含むケイ素、炭素及び窒素を含む無定形の被膜を基体上に蒸着する方法:基体を含む蒸着室中に有機ケイ素物質及び窒素源を含む反応性ガス混合物を導入し;そして前記反応性ガス混合物を反応させてケイ素、炭素及び窒素を含む無定形被膜を形成すること。

IPC (5)：

H01L 21/314 ,  C04B 35/56 301 ,  C07F 7/08 ,  C23C 16/36 ,  H01L 21/205

FI (5)：

H01L 21/314 A ,  C04B 35/56 301 A ,  C07F 7/08 B ,  C23C 16/36 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 非晶質硬質炭素膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-121047   Applicant：株式会社ゼクセル
• 特開昭63-228625
  
• 特表平5-500069