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J-GLOBAL ID：200903046869334117

感光性樹脂組成物およびその用途

Inventor：
佐藤 弘章

About 佐藤 弘章


Applicant, Patent owner：
日本合成化学工業株式会社

About 日本合成化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001029021
Publication number (International publication number)：2002229191
Application date： Feb. 06, 2001
Publication date： Aug. 14, 2002
Summary：
【要約】【課題】 解像度、レジスト剥離性、現像密着力に優れ、PDP等のガラス基材上に電極を形成する等のパターン形成用途に有用な感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 酸価50〜250mgKOH/gのベースポリマー(a)、エチレン性不飽和化合物(b)、光重合開始剤(c)及びカルボン酸変性ポリカプロラクトンジオール化合物(d)よりなる感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム。
Claim (excerpt)：
酸価50〜250mgKOH/gのベースポリマー(a)、エチレン性不飽和化合物(b)、光重合開始剤(c)及びカルボン酸変性ポリカプロラクトンジオール化合物(d)を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (10)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 512 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/48 ,  C08F 2/50 ,  C08F291/08 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032
FI (10)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 512 ,  C08F 2/44 C ,  C08F 2/48 ,  C08F 2/50 ,  C08F291/08 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032
F-Term (71)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB11 ,  2H025AB17 ,  2H025AD01 ,  2H025CA01 ,  2H025CA28 ,  2H025CA44 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB20 ,  2H025CB43 ,  2H025CB51 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J011CA01 ,  4J011CA05 ,  4J011PA25 ,  4J011PA69 ,  4J011PA88 ,  4J011PB25 ,  4J011PB30 ,  4J011PB39 ,  4J011PC02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA07 ,  4J011QA12 ,  4J011QA13 ,  4J011QA17 ,  4J011QA18 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA25 ,  4J011QA32 ,  4J011QA34 ,  4J011QA35 ,  4J011QA37 ,  4J011QA42 ,  4J011QA46 ,  4J011SA02 ,  4J011SA06 ,  4J011SA07 ,  4J011SA22 ,  4J011SA24 ,  4J011SA32 ,  4J011SA34 ,  4J011SA35 ,  4J011SA42 ,  4J011SA61 ,  4J011SA63 ,  4J011SA64 ,  4J011SA75 ,  4J011SA77 ,  4J011SA78 ,  4J011SA83 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AA53 ,  4J026AC23 ,  4J026BA28 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026BA36 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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