Pat
J-GLOBAL ID:200903046878728829
反射防止構造を有する光学素子及び光学系
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
佐野 静夫
, 山田 茂樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003416488
Publication number (International publication number):2005173457
Application date: Dec. 15, 2003
Publication date: Jun. 30, 2005
Summary:
【課題】 製造容易で機械的強度の高い反射防止構造を有する光学素子を提供し、反射防止構造を有する光学素子を不要な回折光が発生しないように備えた光学系を提供する。 【解決手段】 透過光学面表面に使用波長以下の周期で微細な凹凸を複数有する光学素子2において、その微細な凸部1の断面形状が条件式:0.3<h/h*<0.9(h:実際の凸部1の高さ、h*:凸部1の断面において凸部1の両側面の底に接する部分での接線tが交わる点までの高さ)を満足する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
透過光学面表面に使用波長以下の周期で微細な凹凸を複数有する光学素子において、その微細な凸部の断面形状が以下の条件式(1)を満足することを特徴とする光学素子;
0.3<h/h*<0.9 ...(1)
ただし、
h:実際の凸部の高さ、
h*:凸部の断面において凸部の両側面の底に接する部分での接線が交わる点までの高さ、
である。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-088524
Applicant:科学技術振興事業団, 高原浩滋
Cited by examiner (2)
-
反射防止部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-083902
Applicant:三洋電機株式会社
-
ゾルゲル法による反射防止物品及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-150124
Applicant:大日本印刷株式会社
Return to Previous Page