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J-GLOBAL ID：200903052612196040

ゾルゲル法による反射防止物品及びその製造方法

Inventor：
鈴木 智之

About 鈴木 智之

, 
伊東 有道

About 伊東 有道


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 金山 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002150124
Publication number (International publication number)：2003340844
Application date： May. 24, 2002
Publication date： Dec. 02, 2003
Summary：
【要約】【課題】 光反射防止用の微細凹凸を耐久性良く設けた反射防止物品を製造する。【解決手段】 基材1表面に微細凹凸2を有する微細凹凸層3を形成して反射防止物品を製造する為に、(A)微細凹凸形状を造形した原型を用意し、(B)賦形型として原型を用いるか、或いは原型表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製にて作製した複製型を用いて、基材上に塗布形成した有機金属化合物を含むゾルゲル液の塗布膜に、賦形型を押圧して塗布膜の表面に微細凹凸を賦形して微細凹凸層とする。適宜更に焼成する。微細凹凸2の形状は、微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXを、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長λMIN以下、水平断面内での基材材料部分の断面積占有率が、微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な形状とする。
Claim (excerpt)：
表面に反射防止用の微細凹凸を有する微細凹凸層が基材上に形成されて成る反射防止物品を製造する方法であって、上記微細凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXとしたときに、PMAX≦λMINなる関係を有し、且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したときの断面内に於ける基材の材料部分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行く様な凹凸であり、上記反射防止物品を製造する際に工程として順次、(A)先ず、微細凹凸形状を造形した原型を用意し、(B)次いで、賦形型として上記原型を用いるか、或いは、上記原型の表面の微細凹凸形状を1又は2回以上の型取・反転による複製を経て複製型を作製して該複製型を用いて、基材上に塗布形成した有機金属化合物を含むゾルゲル液の塗布膜に対して、前記賦形型を押圧後、離型して、該塗布膜の表面に微細凹凸を賦形して微細凹凸層とする、各工程を行う、ゾルゲル法による反射防止物品の製造方法。
IPC (8)：
B29C 39/10 ZEC ,  B29C 39/26 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/02 ,  G02F 1/1335 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00
FI (8)：
B29C 39/10 ZEC ,  B29C 39/26 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/02 C ,  G02F 1/1335 ,  B29L 7:00 ,  B29L 11:00 ,  G02B 1/10 Z
F-Term (64)：
2H042BA04 ,  2H042BA13 ,  2H042BA15 ,  2H042BA16 ,  2H091FA37X ,  2H091FB02 ,  2H091FB08 ,  2H091FC19 ,  2H091FC25 ,  2H091FD06 ,  2H091FD23 ,  2K009AA04 ,  2K009BB02 ,  2K009BB11 ,  2K009CC02 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  2K009DD11 ,  4F100AA01A ,  4F100AA20 ,  4F100AH08A ,  4F100AK42 ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100DD07B ,  4F100GB41 ,  4F100JL02 ,  4F100JL09 ,  4F100JM01A ,  4F100JM10A ,  4F100JN06A ,  4F202AB19 ,  4F202AC06 ,  4F202AF01 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CD04 ,  4F202CD05 ,  4F202CK11 ,  4F204AA33 ,  4F204AA36 ,  4F204AB01 ,  4F204AB03 ,  4F204AC06 ,  4F204AG01 ,  4F204AG05 ,  4F204AH73 ,  4F204AH78 ,  4F204EA03 ,  4F204EA04 ,  4F204EB01 ,  4F204EB29 ,  4F204EE02 ,  4F204EE21 ,  4F204EE23 ,  4F204EF27 ,  4F204EK10 ,  4F204EK13 ,  4F204EK17 ,  4F204EK24
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (5)
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