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J-GLOBAL ID：200903046912737654

インクジェット記録ヘッド

Inventor： 藤澤 広幸 ,  深沢 直人
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995041481
Publication number (International publication number)：1996230181
Application date： Mar. 01, 1995
Publication date： Sep. 10, 1996
Summary：

【要約】【目的】インク噴射特性を均一化して印字品質向上を図り、PZT膜の厚さが100μm以下でも歩留り率向上を図る。【構成】圧電ユニット20のシリコン基板21は、厚さ0.15mmの共通な部材である。チタン膜22および白金膜23は、それぞれ厚さが0.3 μm,0.5 μmで、シリコン基板21の全表面にわたって積層被着される。その上にPZT膜24が、ガスデポジション法によって、すなわちPZT超微粒子をガス流にのせ、ノズルを通して高速で噴射されることによって、厚さ50μm,幅2mm,長さ4mmで成膜される。これを大気雰囲気中で600 °C、0.5 時間の条件で焼成した後に、PZT膜24の上に幅1mm,長さ3mmの金電極25を被着する。この圧電ユニット20は、ここには図示してないが、振動板上に接着剤によって接着されたり、または、振動板を省略して直接キャビティ板に接着される。

Claim (excerpt)：

圧電ユニットの所定配置された圧電素子の駆動によってインク噴射する、キャビティ板と振動板とを有する記録ヘッドにおいて、圧電ユニットは、圧電素子としてのチタン酸ジルコン酸鉛(以下、PZTと表記する)膜が、基板上の所定配置箇所にガスデポジション法によって形成されてなることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。

IPC (2)：

B41J 2/045 ,  B41J 2/055

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表平5-504740
  
• 特開平2-221382
  
• ガスデポジション装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-122650   Applicant：真空冶金株式会社