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J-GLOBAL ID:200903046991598095

高圧噴射注入地盤改良工法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 永井 義久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002238876
Publication number (International publication number):2003286717
Application date: Aug. 20, 2002
Publication date: Oct. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】処理速度を速く、改良径を大きくすることができ、しかも排泥量が多くならない高圧噴射注入地盤改良工法とする。【解決手段】地盤中に挿入した注入管10を、軸回りに回転させながら引き上げる過程で、前記注入管10の上側位置において、軸心に対して反対の各位置から、それぞれエアを同伴させることなく高圧水のみを噴射ノズル15,15から圧力が15〜25MPa、流量が25〜100リットル/分の条件で、側方に噴射すること、ならびに、前記注入管10の下側位置において、軸心に対して反対の各位置から、それぞれ圧縮エアを同伴させながら、セメントミルクを噴射ノズル16,16から圧力が25〜50MPa、流量が100〜200リットル/分の条件で、高圧噴射すること、によって、地上側への排泥を行いながら地盤中に硬化体を造成する。
Claim (excerpt):
地盤中に挿入した注入管を、軸回りに回転させながら引き上げる過程で、前記注入管の上側位置において、エアを同伴させることなく高圧水のみを一つの噴射ノズルから圧力が15〜25MPa、流量が50〜200リットル/分の条件で、側方に噴射すること、ならびに、前記注入管の下側位置において、軸心に対して反対の各位置から、それぞれ圧縮エアを同伴させながら、セメントミルクを噴射ノズルから圧力が25〜50MPa、流量が100〜200リットル/分の条件で、高圧噴射すること、によって、地上側への排泥を行いながら地盤中に硬化体を造成することを特徴とする高圧噴射注入地盤改良工法。
F-Term (15):
2D040AB03 ,  2D040BA01 ,  2D040BA02 ,  2D040BC01 ,  2D040BD05 ,  2D040CA01 ,  2D040CB03 ,  2D040CD02 ,  2D040DA03 ,  2D040DA09 ,  2D040DA11 ,  2D040DA12 ,  2D040DA16 ,  2D040DA17 ,  2D040FA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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