パターンの欠陥検査方法およびその装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998264275
Publication number (International publication number)：2000097869
Application date： Sep. 18, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】部分的に反射光量の異なる半導体ウエハのパターンの欠陥を、高感度・高信頼度で検出する。【解決手段】基板上に形成された本来同一となるように形成された複数のパターンの欠陥を検査する欠陥検査方法において、同一となるように形成された複数のパターンのうちの第1のパターンを撮像して第1の画像信号を得、この得た第1の画像信号を記憶し、同一となるように形成された複数のパターンのうちの第2のパターンを撮像して第2の画像信号を得、この第2の画像信号と記憶手段に記憶した第1の画像信号とを比較して第1の画像信号と第2の画像信号の不一致の度合いを検出し、この検出した不一致の度合いに関する情報を不一致の度合いの信頼度に関する情報と共に出力するようにした。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された本来同一となるように形成された複数のパターンの欠陥を検査する欠陥検査方法であって、前記同一となるように形成された複数のパターンのうちの第1のパターンを撮像して第1の画像信号を得、該得た第1の画像信号を記憶し、前記同一となるように形成された複数のパターンのうちの第2のパターンを撮像して第2の画像信号を得、該第2の画像信号と前記記憶手段に記憶した第1の画像信号とを比較して該第1の画像信号と前記第2の画像信号の不一致の度合いを検出し、該検出した不一致の度合いに関する情報を該不一致の度合いの信頼度に関する情報と共に出力することを特徴とするパターンの欠陥検査方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 , G01B 11/30

FI (2)：

G01N 21/88 645 A , G01B 11/30 D

F-Term (40)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065DD11 , 2F065EE00 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065HH17 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ19 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065MM03 , 2F065MM22 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ08 , 2F065QQ11 , 2F065QQ18 , 2F065QQ23 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065QQ31 , 2F065QQ42 , 2F065QQ43 , 2F065RR03 , 2F065SS03 , 2F065SS06 , 2F065SS11 , 2G051AA51 , 2G051AA90 , 2G051AB02 , 2G051CA03 , 2G051EA16 , 2G051EC06 , 2G051ED11 , 2G051ED21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

プリント基板の検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-074088 Applicant：シャープ株式会社, 株式会社イーゼル
パターン検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-191043 Applicant：日本電気株式会社
パターン欠陥検出方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-012827 Applicant：株式会社日立製作所

Return to Previous Page