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J-GLOBAL ID:200903047145157813

排ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996339567
Publication number (International publication number):1998174866
Application date: Dec. 19, 1996
Publication date: Jun. 30, 1998
Summary:
【要約】【課題】PdとRhそれぞれの元素のもつ性能を十分に発現させる。【解決手段】少なくともPdを担持してなる第1触媒層2と、第1触媒層2の表面に形成され少なくともRhを担持した第2触媒層3とよりなり、第1触媒層2における担体単位重量当たりのPdの担持量を第2触媒層3における担体単位重量当たりのRhの担持量より多くした。Pdは下層の第1触媒層に担持されているので被毒成分がPdと接触するのが抑制され、Rhは低密度で担持されているのでシンタリングによる活性低下が抑制される。
Claim (excerpt):
第1多孔質担体に少なくともパラジウムを担持してなる第1触媒層と、該第1触媒層の表面に形成され第2多孔質担体に少なくともロジウムを担持した第2触媒層とよりなり、該第1触媒層における該第1多孔質担体単位重量当たりの該パラジウムの担持重量は、該第2触媒層における該第2多孔質担体単位重量当たりの該ロジウムの担持重量より多いことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (5):
B01J 23/46 311 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 21/16 ZAB ,  B01J 23/44
FI (6):
B01J 23/46 311 A ,  B01J 21/16 ZAB A ,  B01J 23/44 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 A ,  B01D 53/36 104 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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