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J-GLOBAL ID:200903047321583280
ダイヤモンドの気相合成方法及び装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宇井 正一 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993200605
Publication number (International publication number):1995053298
Application date: Aug. 12, 1993
Publication date: Feb. 28, 1995
Summary:
【要約】【目的】 生産性の高い、低コストのダイヤモンド膜(特にスピーカなどの振動板)の製膜方法及び装置を提供すること。【構成】 プラズマジェットCVD法を採用すると製膜速度が高い。基板としてダイヤモンドとの密着性の悪い材料を用いると、冷却時にダイヤモンド膜が自動的に剥離する。ガス利用効率が低いので再循環させる。その際陽極点付近のガス流速を5m/s以上にすると炭素が付着しない。
Claim (excerpt):
所定の形状の基板を準備する工程、DCプラズマジェットCVD法で基板上にダイヤモンド膜を堆積させる工程、製膜後基板温度が下がる過程でダイヤモンドと基板の熱膨張率の差によりダイヤモンド膜が自動的に基板から剥離される工程を含むことを特徴とするダイヤモンド成形膜の製造方法。
IPC (5):
C30B 29/04
, C01B 31/06
, C30B 25/18
, H04R 31/00
, H04R 7/02
Patent cited by the Patent: