膜モジュールの洗浄方法及び膜ろ過装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：木戸一彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000381763
Publication number (International publication number)：2002177746
Application date： Dec. 15, 2000
Publication date： Jun. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】少量の薬液で効果的な膜洗浄を行うことができるとともに、処理効率を向上させて水回収率を高めることができる膜モジュールの洗浄方法及び膜ろ過装置を提供する。【解決手段】膜モジュールの薬液洗浄を、ろ過工程処理終了時に、膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して膜内の処理水を膜モジュールの他端から処理水槽に回収する工程と、該処理水回収工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に薬液を注入する工程と、該薬液注入工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して前記薬液を膜外部側に押出す工程と、該薬液押出工程終了後に膜内に処理水を導入して膜内を水で満たす処理水導入工程とにより行う。

Claim (excerpt)：

浸漬型中空糸膜モジュールを薬液により洗浄する方法であって、ろ過工程処理終了時に、膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して膜内の処理水を膜モジュールの他端から処理水槽に回収する工程と、該処理水回収工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に薬液を注入する工程と、該薬液注入工程終了後に膜モジュールの一端から膜内に圧縮空気を導入して前記薬液を膜外部側に押出す工程と、該薬液押出工程終了後に膜内に処理水を導入して膜内を水で満たす処理水導入工程とを含むことを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。

IPC (4)：

B01D 65/02 520 , B01D 63/02 , B01D 65/06 , C02F 1/44

FI (5)：

B01D 65/02 520 , B01D 63/02 , B01D 65/06 , C02F 1/44 D , C02F 1/44 A

F-Term (21)：

4D006GA02 , 4D006HA02 , 4D006HA12 , 4D006HA19 , 4D006HA93 , 4D006HA95 , 4D006JA31A , 4D006JA39A , 4D006JA53A , 4D006JA55A , 4D006JA63A , 4D006JA67A , 4D006JA70A , 4D006JA71 , 4D006KC03 , 4D006KC14 , 4D006KC16 , 4D006MA01 , 4D006PA01 , 4D006PB02 , 4D006PB08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

浸漬型膜濾過装置における膜の薬液洗浄方法及び薬液洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-038865 Applicant：小澤源三, 前澤工業株式会社
中空糸膜モジュールの洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-283798 Applicant：三菱レイヨン株式会社
特開平4-225805

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