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J-GLOBAL ID:200903047442274543

電子ビーム真空蒸着装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 立花 良介
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996207768
Publication number (International publication number):1998030171
Application date: Jul. 18, 1996
Publication date: Feb. 03, 1998
Summary:
【要約】【課題】 電子ビーム真空蒸着装置【解決手段】 蒸発源から放射される光量を蒸着室外に配置した光センサーにて測定する。光量と蒸発速度は比例関係にある。この光センサーと蒸発源とのあいだに望遠鏡や硝子板そしてマスクを配置して光センサーの受光感度低減を阻止する。光センサーの出力は中央制御回路で処理され設定された光電流基準値を維持すべく電子ビーム制御器を介してエミッション電流を制御する。光センサーの光電流基準値と蒸発速度の関係式等を予めこの中央制御回路内に入力してある。水晶センサーからの蒸発速度情報を参照して光電流の基準値を修正する。【効果】 高速・高精度の蒸発速度制御が可能になった。高価な水晶センサーを交換する必要がないために連続蒸着が可能になった。
Claim (excerpt):
電子ビームを照射された蒸発源5の光量を測定する光センサー7を真空蒸着室外あるいは室内に配置し,この測定値が中央制御回路15内に記憶された所望の蒸発速度対応値を維持するように,電子銃のエミッション電流を制御する,電子ビーム真空蒸着装置。
IPC (2):
C23C 14/30 ,  C23C 14/54
FI (2):
C23C 14/30 B ,  C23C 14/54 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 真空蒸着装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-122163   Applicant:東芝硝子株式会社
  • 特開平2-040911
  • 電子銃を用いた蒸着装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-181814   Applicant:日電アネルバ株式会社
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