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J-GLOBAL ID:200903047523325070

共有するワード線およびデジット線を有するMRAM

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大貫 進介 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000560585
Publication number (International publication number):2002520767
Application date: Jul. 15, 1999
Publication date: Jul. 09, 2002
Summary:
【要約】高速かつ高密度磁気抵抗ランダム・アクセス・メモリ(MRAM)装置(30)が提供される。MRAM装置は、ポリシリコンワード線(39a)を使用し、それは配線スペースを節約する。さらに、ワード線は接続線(44a)によってデジット線(38a)に接続され、それはトランジスタ(43a,40a)満の電気的抵抗を減らす。接続線の配置はデジット電流制御(33a)からトランジスタ(43a)までの伝搬時間を減少させ、メモリのサイクル時間を改善する。
Claim (excerpt):
磁気ランダム・アクセス・メモリ・ユニットであって、 非磁性層によって分離された第1および第2磁性層を有する磁気メモリ・セル、および 前記磁気メモリ・セルを活性化するために前記磁気メモリ・セルに直列に接続されたメモリ・セル・スイッチ、を含むメモリ要素と、 前記第1磁気層上に配置され、前記第1磁気層に電気的に結合されたビット線と、 前記メモリ・セルの近傍に配置され、前記メモリ・セルからは電気的に絶縁され、かつ前記ビット線とは直角に配置されたデジット線と、 前記デジット線と平行して配置され、前記メモリ・セル・スイッチを制御するために前記メモリ・セル・スイッチに結合されるワード線と、 前記デジット線を前記ワード線に電気的に接続する接続線と、 から構成されることを特徴とする磁気ランダム・アクセス・メモリ・ユニット。
IPC (4):
G11C 11/14 ,  G11C 11/15 ,  H01L 27/105 ,  H01L 43/08
FI (4):
G11C 11/14 Z ,  G11C 11/15 ,  H01L 43/08 Z ,  H01L 27/10 447
F-Term (8):
5F083HA10 ,  5F083JA36 ,  5F083JA37 ,  5F083JA39 ,  5F083KA01 ,  5F083KA05 ,  5F083LA12 ,  5F083LA16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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