Pat

J-GLOBAL ID：200903047557439740

精密研磨用組成物

Inventor： 石飛 健 ,  今井 文男 ,  貴堂 高徳 ,  阪本 博
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社 ,  山口精研工業株式会社
Agent (1)： 福田 武通 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996250539
Publication number (International publication number)：1997286975
Application date： Sep. 20, 1996
Publication date： Nov. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高記録密度の磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】 Al合金基板上に成膜された無電解NiPメッキ膜を研磨するための精密研磨用組成物であって、水、αアルミナ粒子、研磨促進剤からなり、前記αアルミナ粒子は微粒子ギブサイトを原料とするか、または前記αアルミナ粒子の平均粒子径(D50)が0.35〜0.55μmであるか、または前記αアルミナ粒子の90%粒子径(D90)が0.7μm以下であるか、または前記αアルミナ粒子の最大粒子径(Dmax )が1.4μm以下である。

Claim (excerpt)：

Al合金基板上に成膜された無電解NiPメッキ膜を研磨するための精密研磨用組成物であって、水、αアルミナ粒子、研磨促進剤からなり、前記αアルミナ粒子は微粒子ギブサイトを原料とすることを特徴とする精密研磨用組成物。

IPC (4)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (4)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 研磨剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-097217   Applicant：三菱化成株式会社
• 特開平3-277683
  

Cited by examiner (1)

• 研磨剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-097217   Applicant：三菱化成株式会社