露光装置及び露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：古谷栄男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994069193
Publication number (International publication number)：1995283106
Application date： Apr. 07, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】露光装置及び露光方法に関し、特に、不良パターンの除去精度の向上を目的とする。【構成】照光手段12は、所定数の回路形成領域から構成される一の正規照光領域を、一回の照光処理により露光する。移動手段18は、ウエハ22と照光手段12とを、相対的に移動させる。露光制御手段32は、正規照光領域がウエハ22上で相互に重複しないように、移動手段18及び照光手段12を制御する。周縁部判定手段34は、回路形成領域がウエハ22の周縁部22a(図示せず)を含むか否かを判定する。焼潰露光制御手段36は、周縁部22aを含む当該回路形成領域に対し焼潰照光処理を行なうよう、移動手段18及び照光手段12を制御する。したがって、周縁部22aを含む回路形成領域の回路パターンは完全に破壊され、検出が困難な軽微な欠損を防止することができる。

Claim (excerpt)：

所定数のパターン形成領域から構成される一の照光領域を、一回の照光処理により露光する照光手段、前記照光手段により露光される被露光体と前記照光手段とを、相対的に移動させる移動手段、前記照光手段により露光される前記照光領域が、前記被露光体上で相互に重複しないように、前記移動手段及び前記照光手段を制御する露光制御手段、を備えた露光装置において、前記パターン形成領域が、前記被露光体の周縁部を含むか否かを判定する周縁部判定手段、前記周縁部を含む当該パターン形成領域に対し、焼潰照光処理を行なうよう、前記移動手段及び前記照光手段を制御する焼潰露光制御手段を備えたこと、を特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03B 27/54 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 514 B , H01L 21/30 514 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

マスク上のLSIチップレイアウト方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-016786 Applicant：シャープ株式会社

Return to Previous Page