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J-GLOBAL ID：200903047634627296

回転薬液洗浄方法及び洗浄装置

Inventor： 大見 忠弘 ,  米川 直道 ,  國本 文智 ,  玉木 竹男 ,  堀木 泰之 ,  加地 利光
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘 ,  日曹エンジニアリング株式会社 ,  株式会社エムテーシー
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993150897
Publication number (International publication number)：1995014817
Application date： Jun. 22, 1993
Publication date： Jan. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】 より清浄なシリコンウエハ表面の提供による高性能半導体の生産、半導体生産の低コスト化、また、新しい洗浄方法及び装置によってなる、薬液使用量の減少、洗浄時間の短縮、使用薬品数の減少、廃液回収の容易さ及び装置に対する設備投資の減少による総合的な低コスト化を可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。【構成】 複数の薬液洗浄工程を有する洗浄方法において、被洗浄物を洗浄槽内に水平に配置し、該洗浄槽を密閉した後、該被洗浄物を回転させつつ、薬液流を被洗浄物表面上方から連続的に該洗浄物の表面に供給する薬液洗浄工程と、超純水を供給する超純水洗浄工程とをそれぞれの薬液について同一洗浄槽内において順次行い、洗浄後乾燥を行うことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

複数の薬液洗浄工程を有する洗浄方法において、被洗浄物を洗浄槽内に水平に配置し、該洗浄槽を密閉した後、該被洗浄物を回転させつつ、薬液流を被洗浄物表面上方から連続的に該洗浄物の表面に供給する薬液洗浄工程と、超純水を供給する超純水洗浄工程とをそれぞれの薬液について同一洗浄槽内において順次行い、洗浄後乾燥を行うことを特徴とする回転薬液洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 回転式基板処理装置の基板回転保持具
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-276915   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社