Pat
J-GLOBAL ID：200903047683083633

回折光学素子

Inventor：
石井 哲也

About 石井 哲也


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 杉村 暁秀 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996138645
Publication number (International publication number)：1997127322
Application date： May. 31, 1996
Publication date： May. 16, 1997
Summary：
【要約】【課題】 容易に製造でき、しかも回折効率の波長依存を低減して、フレアやゴースト等の発生を有効に防止できる回折光学素子を提供する。【解決手段】 密接または近接して順次に積層した第1、第2および第3の領域(11,12,13)と、第1および第2の領域(11,12) の境界面に形成した第1のレリーフパターン(21)と、第2および第3の領域(12,13) の境界面に形成した第2のレリーフパターン(22)とを有し、第1、第2および第3の領域(11,12,13)は、使用する光の波長で実質的に透明な互いに異なる材料をもって構成され、第1および第2のレリーフパターン(21,22) は、実質的に等しいピッチ分布で、互いに異なる溝深さ(d1,d2) を有し、それらの対応する部位が近接して配置されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
密接または近接して順次に積層した第1、第2および第3の領域と、前記第1および第2の領域の境界面に形成した第1のレリーフパターンと、前記第2および第3の領域の境界面に形成した第2のレリーフパターンとを有し、前記第1、第2および第3の領域は、使用する光の波長で実質的に透明な互いに異なる材料をもって構成され、前記第1および第2のレリーフパターンは、実質的に等しいピッチ分布で、互いに異なる溝深さを有し、それらの対応する部位が近接して配置されていることを特徴とする回折光学素子。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • 特開平2-296205
  • 特開平3-052893
  • 特開平3-213802
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM