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J-GLOBAL ID:200903047726347290

半導体装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中村 純之助
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995196483
Publication number (International publication number):1997045915
Application date: Aug. 01, 1995
Publication date: Feb. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】微小な半導体島群、細線群を互いに相互作用のある形で多重連結し、かつ、その機能を電気信号として取り出す。【解決手段】絶縁層上の半導体層を含んでなる半導体装置において、前記半導体層の一部が他の部分より薄く加工され、薄く加工された該半導体層(2)、(3)は、薄く加工されていない厚い領域(1)にはさまれており、薄く加工された該半導体層(2)の長さを制御することにより、一部をトンネル絶縁性、残りの部分を完全絶縁性とした構成。
Claim (excerpt):
絶縁層上の半導体層を含んでなる半導体装置において、前記半導体層の一部が他の部分より薄く加工され、かつ、薄く加工された該半導体層の一部がトンネル絶縁性、残りの部分が完全絶縁性を有することを特徴とする半導体装置。
IPC (4):
H01L 29/78 ,  H01L 29/06 ,  H01L 29/66 ,  H01L 29/80
FI (4):
H01L 29/78 301 J ,  H01L 29/06 ,  H01L 29/66 ,  H01L 29/80 A

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