Pat
J-GLOBAL ID:200903047909147338
高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
栗原 浩之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000395738
Publication number (International publication number):2001270919
Application date: Dec. 26, 2000
Publication date: Oct. 02, 2001
Summary:
【要約】【課題】 水性現像液で現像可能であり、良好なパターニング性を有する、架橋性高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)〜(III)に示される構成単位を含み、各構成単位の比率が、2mol%≦l≦73mol%、8mol%≦m≦83mol%、及び15mol%≦n≦80mol%の範囲とする。【化1】(但し、R1〜R4のそれぞれは水素又はメチル基で、両者が混在してもよい。Xは、水素、アルカリ金属、及び下記一般式(1)で表されるアンモニウム類から選択される1種又は2種以上を表す。pは1〜10の整数を表す。)【化2】(但し、R5〜R8は、それぞれ独立に水素、又はC1〜C3のアルキル基もしくはアルカノール基を表す。)
Claim (excerpt):
下記一般式(I)〜(III)に示される構成単位を含み、各構成単位の比率が、2mol%≦l≦73mol%、8mol%≦m≦83mol%、及び15mol%≦n≦80mol%の範囲にあることを特徴とする高分子化合物。【化1】(但し、R1〜R4のそれぞれは水素又はメチル基で、両者が混在してもよい。Xは、水素、アルカリ金属、及び下記一般式(1)で表されるアンモニウム類から選択される1種又は2種以上を表す。pは1〜10の整数を表す。)【化2】(但し、R5〜R8は、それぞれ独立に水素、又はC1〜C3のアルキル基もしくはアルカノール基を表す。)
IPC (9):
C08F220/28
, C08F 2/50
, C08F 8/00
, C08F220/06
, C08F290/06
, C08F290/12
, C08F299/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/038 501
FI (9):
C08F220/28
, C08F 2/50
, C08F 8/00
, C08F220/06
, C08F290/06
, C08F290/12
, C08F299/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/038 501
F-Term (65):
2H025AA04
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC53
, 2H025BC83
, 2H025CA01
, 2H025CA28
, 2H025CC03
, 2H025CC11
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 4J011AA05
, 4J011AC04
, 4J011QA03
, 4J011QA06
, 4J011QA07
, 4J011QA08
, 4J011QA09
, 4J011QA34
, 4J011QA35
, 4J011QA37
, 4J011QA38
, 4J011QA39
, 4J011QB16
, 4J011SA01
, 4J011SA21
, 4J011SA31
, 4J011SA63
, 4J011SA64
, 4J011SA76
, 4J011SA78
, 4J011SA79
, 4J011TA03
, 4J011UA01
, 4J011VA01
, 4J011WA01
, 4J027AA02
, 4J027AC03
, 4J027BA06
, 4J027BA07
, 4J027BA08
, 4J027CC03
, 4J027CC05
, 4J027CD10
, 4J100AJ02Q
, 4J100AK03Q
, 4J100AK08Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL09P
, 4J100AL66R
, 4J100BA03P
, 4J100BA03R
, 4J100BA08P
, 4J100CA05
, 4J100CA31
, 4J100DA61
, 4J100FA02
, 4J100HA11
, 4J100HA19
, 4J100HA29
, 4J100HA62
, 4J100HC39
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
側鎖に不飽和基を有する重合体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-267846
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
-
アルカリ可溶型レジスト用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-163503
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
-
吸放湿性材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-283917
Applicant:東洋インキ製造株式会社
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