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J-GLOBAL ID：200903047927151997

電子ビーム装置

Inventor： 岡山 重夫 ,  岩田 康嗣
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002112489
Publication number (International publication number)：2003308801
Application date： Apr. 15, 2002
Publication date： Oct. 31, 2003
Summary：

【要約】【課題】 試料表面をコンタミネーションの要因となりにくい不活性ガス等の雰囲気で被覆し、コンタミネーション膜生成の要因となるハイドロカーボンの原因となる残留ガスを試料表面から排除することで、コンタミネーション膜の堆積を低減すること。【解決手段】 試料13を保持するための試料ステージには、試料13を固定する試料ホルダー14と、電子ビーム照射部に開口35を有して、試料表面周辺を微小な間隙で覆う試料カバー15と、試料ホルダー14と試料カバー15間の空間にガスを導入する機構とを設ける。本発明では、特殊な試料ホルダー13および試料カバー15から構成された電子ビーム装置用の特殊な試料ステージを機能させることにより、試料表面上の非常に薄い層のみを覆うガス層流を形成する。

Claim (excerpt)：

試料ステージに保持した試料上の電子ビーム照射位置を移動するための電子ビーム偏向機構および試料移動機構を有する電子ビーム装置において、前記試料ステージは、試料を固定する試料ホルダーと、電子ビーム照射部に開口を有して、試料表面周辺を微小な間隙で覆う試料カバーと、前記試料ホルダーと前記試料カバー間の空間にガスを導入する機構とを設けて、前記試料ホルダーと前記試料カバーによって、試料表面にガス層流を形成することを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (2)：

H01J 37/20 ,  H01J 37/18

FI (2)：

H01J 37/20 G ,  H01J 37/18

F-Term (7)：

5C001AA01 ,  5C001BB02 ,  5C001BB03 ,  5C001CC04 ,  5C001CC06 ,  5C001DD01 ,  5C033KK03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-057327
  
• スパッタリング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-259580   Applicant：松下電器産業株式会社