Pat
J-GLOBAL ID:200903047987474264

ポリチオフェン類

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 研二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003004779
Publication number (International publication number):2003231739
Application date: Jan. 10, 2003
Publication date: Aug. 19, 2003
Summary:
【要約】【課題】 環境酸素によるドーピングを起こしにくく、溶液処理によって経済的に加工可能な半導体ポリマーを提供する。【解決手段】 下記化11の構造式を持つポリチオフェン類である。【化1】式中、R及びR’は側鎖であり、Aは二価結合基であり、x及びyは非置換チエニレン単位の数を示し、zは0又は1であり(ただし、xとyとの合計は0より大きい)、mはセグメントの数を示し、nは重合度を示す。
Claim (excerpt):
下記化1の構造式を持つポリチオフェン類であって、【化1】式中、R及びR’は側鎖であり、Aは二価結合基であり、x及びyは非置換チエニレン単位の数を示し、zは0又は1であり、xとyとの合計は0より大きく、mはセグメントの数を示し、nは重合度を示すことを特徴とするポリチオフェン類。
F-Term (5):
4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 米国特許第6,150,191号
  • 米国特許第6,107,117号
  • 米国特許第5,969,376号
Show all
Cited by examiner (4)
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page