Pat

J-GLOBAL ID：200903098296085370

ポリチオフェン類及びその調製法

Inventor： ベン エス オン ,  ピン リュー ,  ルー ジアン ,  ユー キ ,  イリアン ウー
Applicant, Patent owner： ゼロックス・コーポレーション
Agent (1)： 吉田 研二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003006211
Publication number (International publication number)：2003221434
Application date： Jan. 14, 2003
Publication date： Aug. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】 環境酸素によるドーピングを起こしにくく、溶液処理によって経済的に加工可能な半導体ポリマーを提供する。【解決手段】 下記化19の構造式を持つポリチオフェン類である。【化19】式中、Rは側鎖であり、mは置換基の数であり、Aは二価結合基であり、x、y、及びzはそれぞれモノマーセグメント中における、R置換チエニレン、非置換チエニレン、及び二価結合基Aの数を示し、zは0又は1のいずれかであり、nはポリマー鎖中の繰り返しモノマーセグメントの数又は重合度を示す。

Claim (excerpt)：

下記化1の構造式を持つポリチオフェン類であって、【化1】式中、Rは側鎖であり、mは置換基の数であり、Aは二価結合基であり、x、y、及びzはそれぞれモノマーセグメント中における、R置換チエニレン、非置換チエニレン、及び二価結合基Aの数を示し、zは0又は1のいずれかであり、nはポリマー鎖中の繰り返しモノマーセグメントの数又は重合度を示すことを特徴とするポリチオフェン類。

F-Term (5)：

4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 米国特許第6,150,191号
  
• 米国特許第6,107,117号
  
• 米国特許第5,969,376号
  
• 米国特許第5,619,357号
  
• 米国特許第5,777,070号
  

Cited by examiner (5)

• 特開平4-293919
  
• ポリチオフェン類
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-004779   Applicant：ゼロックス・コーポレーション
• ポリチオフェン類
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-004785   Applicant：ゼロックス・コーポレーション
• 多重ブロック共重合体を基材とする波長可変性発光ダイオード、それに適した重合体およびオリゴマー
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-515043   Applicant：リュークスウニヴェルシテートテグロニンゲン
• 導電性ポリマー/ヌクレオチドコポリマー、その製造方法及びその用途
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平6-521751   Applicant：シスバイオインターナショナル

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• The Journal of Physical Chemistry, 19950309, 第99巻第10号, 3218-3224頁
• Synthetic Metals, 1995, 第71巻, 2085-2086頁