レジスト除去洗浄方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998263723
Publication number (International publication number)：2000100686
Application date： Sep. 17, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】人体・環境に問題のある薬液洗浄法及び高コストのプラズマ洗浄法を代替して、人体・環境に与える影響が少なく低コストで被洗浄物表面からレジストを除去する洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】水蒸気発生室7内で水6を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路10を介して洗浄室2に導き、この水蒸気を被洗浄物5の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被洗浄物5に接触させることによって被洗浄物5表面のレジスト除去洗浄を行うようにした。

Claim (excerpt)：

水蒸気発生室内で水を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路を介して洗浄室に導き、この水蒸気を被洗浄物の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被洗浄物に接触させることによって被洗浄物表面のレジスト除去洗浄を行うことを特徴とするレジスト除去洗浄方法。

IPC (7)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501 , G03F 7/42 , H01L 21/304 645 , H01L 21/306 , H05K 3/06 , H05K 3/26

FI (7)：

H01L 21/30 572 B , G03F 7/30 501 , G03F 7/42 , H01L 21/304 645 B , H05K 3/06 C , H05K 3/26 A , H01L 21/306 D

F-Term (21)：

2H096AA25 , 2H096LA06 , 5E339CG01 , 5E339EE10 , 5E339GG10 , 5E343AA02 , 5E343AA22 , 5E343EE17 , 5E343ER11 , 5E343FF23 , 5E343GG20 , 5F043BB30 , 5F043CC16 , 5F043DD06 , 5F043DD07 , 5F043DD10 , 5F043EE03 , 5F043EE10 , 5F043EE12 , 5F046MA11 , 5F046MA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平1-239933
特開平4-370931
特開平4-338629

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