表面処理方法及び装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998255846
Publication number (International publication number)：2000091193
Application date： Sep. 09, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】比較的小型で簡単な装置で、濡れ性向上、アッシングなどの表面処理を、比較的容易にかつ低コストで行うことができる新規な表面処理方法及び装置を提供する。【解決手段】水蒸気発生室内で水を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路を介して表面表面処理室に導き、この水蒸気を被処理物の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被処理物に接触させることによって被処理物の表面処理を行うようにした。

Claim (excerpt)：

水蒸気発生室内で水を加熱して水蒸気を発生させ、この水蒸気を管路を介して表面処理室に導き、この水蒸気を被処理物の表面が水の沸点以上の温度に加熱された状態の被処理物に接触させることによって被処理物の表面処理を行うことを特徴とする表面処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/304 645

FI (2)：

H01L 21/30 570 , H01L 21/304 645 B

F-Term (2)：

5F046MA12 , 5F046MA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-097526
特開平1-239933
特開平4-370931

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