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J-GLOBAL ID：200903048033656830

分子量分布の狭いスチレン系重合体の製造方法

Inventor： 小川 哲夫
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Agent (1)： 小田島 平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996026236
Publication number (International publication number)：1996259615
Application date： Jan. 22, 1996
Publication date： Oct. 08, 1996
Summary：

【要約】【課題】 重合反応速度が極めて速く、しかも分子量分布の狭い単分散スチレン系重合体の製造方法を提供すること。【解決手段】 触媒としてフリーラジカル化合物、ラジカル重合開始剤およびりん化合物から成る混合物を用いてスチレン系モノマーを(共)重合することを特徴とする分子量分布の狭いスチレン系重合体の製造方法。

Claim (excerpt)：

スチレン系モノマー又はスチレン系モノマーと他のコモノマーをラジカル重合法により重合又は共重合することにより分子量分布の狭いスチレン系重合体を製造する方法において、該重合又は共重合をフリーラジカル化合物、ラジカル重合開始剤およびりん化合物からなる触媒系の存在下に行なうことを特徴とする方法。

IPC (4)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 12/08 ,  C08F293/00 MRK ,  C08F 2/38 MCN

FI (4)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 12/08 ,  C08F293/00 MRK ,  C08F 2/38 MCN

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• フリーラジカル重合方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-277255   Applicant：ゼロックスコーポレイション