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J-GLOBAL ID：200903048291174041

表面疵検出装置

Inventor： 香取 英夫 ,  國永 学 ,  内藤 修治 ,  小林 尊道 ,  長谷川 昇
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 國分 孝悦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000395944
Publication number (International publication number)：2002195952
Application date： Dec. 26, 2000
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】 オンラインの質劣化が少ない疵情報を提供し、検出信号処理の簡素化及び疵検出装置の低コスト化を図ることを目的とする。【解決手段】 検査対象材1表面の反射光を画像データに変換し、複数のフィルター6a〜6cにより大きさの異なる疵に対した疵候補を抽出するとともに、濃度情報を演算し、これらの情報を組み合わせて、所定小領域を一画素に圧縮する。n個の一次元カメラ3a〜3dで対象材1を幅x方向に分割して検査する場合は、各カメラ当りの画像情報を幅x方向に組み合わせて一元化すると共に長さy方向に配列して2次元画像を形成する。あるいは、各カメラ当りの画像情報を一旦メモリ24a〜24dに記憶し、光強度検出時のn倍の周波数をもつクロック信号で順次読み出すことにより、n個のカメラ当りの画像情報を一元化すると共に長さy方向に配列して2次元画像を形成する。

Claim (excerpt)：

検査対象材表面の反射光の輝度を電気信号に変換し、検査対象材の幅方向x対応でシリアルに発生する光強度検出手段と、前記電気信号をデジタルデータすなわち画像データに変換するアナログ/デジタル変換手段と、前記画像データに、デジタル変換の画素単位の輝度差を強調する処理、および、輝度差をならす平滑化処理を施すフィルタ手段と、前記輝度差を強調する処理を施した画像データの輝度レベルが所定範囲内か否を表わす第1の一次疵判定データ、および、前記平滑化処理を施した画像データの輝度レベルが所定範囲内か否を表わす第2の一次疵判定データを生成する一次処理手段と、前記幅方向xおよびそれに直交するy方向に共に複数画素分のエリアの、前記第1および第2の一次疵判定データの「否」の論理和を生成する一次合成手段と、前記エリアの「否」の個数を計数する一次判定疵計数手段と、前記エリア内の画像データのピーク値の極性を検出する極性検出手段と、前記一次判定疵計数手段が計数した個数および前記極性検出手段が検出した極性に基づいて前記エリアを疵有エリアとするか疵無エリアとするか決定しこれを表わす信号を発生するエリア疵一次情報生成手段とを備えることを特徴とする表面疵検出装置。

IPC (5)：

G01N 21/892 ,  B21C 51/00 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G06T 1/00 300

FI (5)：

G01N 21/892 B ,  B21C 51/00 P ,  G01B 11/30 A ,  G01N 21/88 J ,  G06T 1/00 300

F-Term (57)：

2F065AA49 ,  2F065AA61 ,  2F065BB13 ,  2F065BB15 ,  2F065CC06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF16 ,  2F065FF61 ,  2F065GG16 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ05 ,  2F065QQ06 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ36 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR00 ,  2F065RR05 ,  2G051AA37 ,  2G051AB07 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051EA09 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EA19 ,  2G051EA20 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  5B057AA01 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA11 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE02 ,  5B057CE05 ,  5B057CE06 ,  5B057CE10 ,  5B057CE11 ,  5B057DA03 ,  5B057DA12 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC14 ,  5B057DC22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 欠陥検査装置およびその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-206078   Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• 特開平4-190144