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J-GLOBAL ID：200903048301997459
複合ガス導入システムおよび方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
恩田 博宣 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000612540
Publication number (International publication number)：2002542142
Application date： Apr. 13, 2000
Publication date： Dec. 10, 2002
Summary：
【要約】気相堆積システム(10)の反応アセンブリ(30)は、ガレット出口(34b)に通じる反応チャンバ(38)と、シース出口(32b)に通じるシース(36)とを備える。ガレット出口(34b)およびシース出口(32b)は反応アセンブリ(30)の先端(30b)に位置し、その先端(30b)には複合ノズル(14)を備える。反応アセンブリ(30)は、複合ノズル(33)から目標基板(14)に向けて放出するための複合ガス流(42)を生成する。複合ガス流(42)は、試薬ガス流(44)とシースガス流(46)とを備え、シースガス流(46)は少なくとも部分的に試薬ガス流(44)を包んでいる。複合ガス流(42)を生成・配送する方法ならびに気相堆積を行う方法も開示されている。
Claim (excerpt)：
基板上に物質を気相堆積させるために試薬ガスを該基板に送達する方法であって、前記基板に向けて試薬ガス流を放出する工程を有し、前記試薬ガス流は少なくとも部分的にシースガス流内に被包されている方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C30B 29/38 D
, C30B 25/14
4G077AA03
, 4G077BE13
, 4G077BE15
, 4G077DB05
, 4G077EA06
, 4G077EG22
, 4G077EG28
, 4G077EH06
, 4G077TH05
, 4G077TH11
Cited by examiner (6)
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