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J-GLOBAL ID：200903048598554070

クリーニングガス

Inventor： 毛利 勇 ,  田村 哲也 ,  大橋 満也
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998239338
Publication number (International publication number)：1999236561
Application date： Aug. 26, 1998
Publication date： Aug. 31, 1999
Summary：

【要約】【課題】 CVD法、スパッタリング法、ゾルゲル法、蒸着法等を用いて薄膜、厚膜、粉体、ウイスカを製造する装置において、装置内壁、冶具等に堆積した不要な堆積物を除去するための地球温暖化係数がないクリーニングガスを提供する。【解決手段】 ハイポフルオライトを100%または希釈ガスで1vol%以上に希釈したクリーニングガスであり、また少なくとも酸素または酸素含有化合物ガスを含有し、該酸素が0.4〜90vol%の割合で含有させる。

Claim (excerpt)：

薄膜形成装置内に生成した不要な堆積物と反応させて除去し、装置外に排出するためのガスであって、ハイポフルオライトを100%または希釈ガスで1vol%以上に希釈したガスからなることを特徴とするクリーニングガス。

IPC (10)：

C09K 13/08 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 645 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/38 ,  C11D 17/00

FI (10)：

C09K 13/08 ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 645 C ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/38 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/302 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• クリーニングガス及びエッチングガス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-130120   Applicant：セントラル硝子株式会社