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J-GLOBAL ID：200903048601623119

プロセス異常分析装置および方法並びにプログラム

Inventor： 中村 寿一 ,  大林 茂 ,  萩原 健一郎 ,  合川 禎一
Applicant, Patent owner： オムロン株式会社
Agent (1)： 松井 伸一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006070932
Publication number (International publication number)：2007250748
Application date： Mar. 15, 2006
Publication date： Sep. 27, 2007
Summary：

【課題】 製品の異常の有無の判定結果に対する信頼性を高めることができるプロセス異常分析装置を提供すること【解決手段】 プロセスデータ記憶部21に格納された時系列のプロセスデータからプロセス特徴量を抽出するプロセスデータ編集部22と、プロセス特徴量から製造システムで製造される製品並びに製造装置の異常検出を行なうための異常分析ルールを記憶する異常分析ルールデータ記憶部26と、異常分析ルールにより、プロセス特徴量から製品並びに前記製造装置の異常の有無を判定する異常判定部24と、を備える。異常分析ルールに使用する予測モデルとして部分最小自乗回帰(PLS)モデルを使用するとともに、Q統計量およびT2統計量を使用し、異常判定部は、その統計量の値が設定値以上の場合に前記製造装置が異常と判定するようにした。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

1または複数の製造装置からなる製造システムにおいて、プロセス実行時に得られるプロセスデータに基づいてプロセスの異常を単位対象品毎に検出するプロセス異常分析装置であって、 前記時系列のプロセスデータを記憶するプロセスデータ記憶手段と、 そのプロセスデータ記憶手段に格納されたプロセスデータからプロセス特徴量を抽出するプロセスデータ編集手段と、 プロセス特徴量から前記製造システムで製造される製品並びに前記製造装置の異常検出を行なうための異常分析ルールを記憶する異常分析ルールデータ記憶手段と、 前記異常分析ルールにより、前記プロセス特徴量から前記製品並びに前記製造装置の異常の有無を判定する異常判定手段と、 を備え、 前記異常分析ルールに使用するプロセス処理結果の予測モデルとして部分最小自乗回帰モデルを使用するとともに、Q統計量およびまたはT2統計量を使用し、前記異常判定手段は、その統計量の値が設定値以上の場合に前記製造装置が異常と判定することを特徴とするプロセス異常分析装置。

IPC (3)：

H01L 21/02 ,  G05B 23/02 ,  G05B 19/418

FI (4)：

H01L21/02 Z ,  G05B23/02 301V ,  G05B23/02 302Y ,  G05B19/418 Z

F-Term (9)：

3C100DD22 ,  3C100DD23 ,  3C100EE06 ,  5H223AA01 ,  5H223DD03 ,  5H223DD07 ,  5H223DD09 ,  5H223EE29 ,  5H223FF06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 処理結果の予測方法及び予測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-067116   Applicant：東京エレクトロン株式会社