Pat

J-GLOBAL ID：200903048629019730

ウエハの温度制御方法及び装置

Inventor： フセイン,アンワー ,  ノーバックシー,ハミド
Applicant, Patent owner： ラム リサーチ コーポレイション
Agent (1)： 大塚 康徳 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997502125
Publication number (International publication number)：1999507473
Application date： Jun. 07, 1996
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】ウエハがチャック上に位置決めされたガスプラズマやノンプラズマ等の環境下で、処理中のウエハ温度の制御方法及び装置。ウエハは加熱され、圧縮ガスはウエハとチャックの間の空間に注入されてウエハからチャックへ熱を伝導する。希望ウエハ温度を保つため、実際のウエハ温度と希望ウエハ温度の差に応じてウエハとチャックの間の熱伝導性が変わるように、圧縮ガスの圧力を自動的に変化させる。

Claim (excerpt)：

処理中のウエハの温度制御方法であって、 チャックに対してウエハを位置決めする工程と、 ウエハを加熱する工程と、 ウエハからチャックへ圧縮ガスが熱を伝導するように、ウエハとチャックの間の空間へを圧縮ガス注入する工程と、 希望ウエハ温度を保つため、実際のウエハ温度と希望ウエハ温度の差に応じてウエハとチャックの間の熱伝導が変化するように、自動的に圧縮ガスのガス圧を変化させる工程と、 を備えたことを特徴とする温度制御方法。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 真空処理方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-160203   Applicant：株式会社日立製作所