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J-GLOBAL ID：200903048647818208

ハードディスク蒸気潤滑剤注入

Inventor： ヒューズ、ジョン・エル ,  デコベン、ベンジャミン・エム ,  ラビネ、リチャード・イー
Applicant, Patent owner： インテバック・インコーポレイテッド
Agent (1)： 竹内 澄夫 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000566847
Publication number (International publication number)：2002523852
Application date： Aug. 10, 1999
Publication date： Jul. 30, 2002
Summary：

【要約】真空中でディスクを真空ステーションへ輸送する装置が開示される。真空ステーションでは、潤滑膜がディスク表面に一様に蒸着される。多数の穴60を有する板50通じて蒸着され、厚さの一様性が達成される。製造装置設備、新規な製造方法及び新規なディスクが開示される。

Claim (excerpt)：

平滑なハードディスクの製造方法であって、 真空中で、基板上に磁気メディアの下地層を被膜する工程、 前記真空中に前記下地層を維持しながら、前記下地層上に保護層を被膜する工程、及び 前記真空中に前記保護層を維持しながら、前記保護層上に潤滑層を被膜する工程、から成る方法。

IPC (12)：

G11B 5/84 ,  C10M107/38 ,  C23C 14/06 ,  C23C 16/26 ,  G11B 7/24 533 ,  G11B 7/24 534 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/105 531 ,  G11B 11/105 ,  G11B 11/105 546 ,  C10N 40:18 ,  C10N 50:04

FI (12)：

G11B 5/84 B ,  C10M107/38 ,  C23C 14/06 F ,  C23C 16/26 ,  G11B 7/24 533 K ,  G11B 7/24 534 M ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/105 531 D ,  G11B 11/105 531 M ,  G11B 11/105 546 F ,  C10N 40:18 ,  C10N 50:04

F-Term (28)：

4H104CD04 ,  4H104PA16 ,  4H104QA09 ,  4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA34 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K030BA27 ,  4K030CA02 ,  4K030CA12 ,  4K030LA20 ,  5D029LA12 ,  5D029LC21 ,  5D075EE03 ,  5D075FG04 ,  5D075FG10 ,  5D075GG02 ,  5D075GG12 ,  5D075GG16 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BC00 ,  5D112CC00 ,  5D112FA02 ,  5D112GA00 ,  5D121AA03 ,  5D121EE02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-238137   Applicant：株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社
• プラズマ処理装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-017682   Applicant：株式会社日立製作所
• 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-082879   Applicant：花王株式会社
• 特開昭63-213116
  
• 磁気記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-333228   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭63-213116