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J-GLOBAL ID:200903048662543010

外観検査システムおよび外観検査方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 武 顕次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999167154
Publication number (International publication number):2000356512
Application date: Jun. 14, 1999
Publication date: Dec. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高速かつ安価で、開発期間も短縮でき、さらに、柔軟性が高く、アルゴリズム変更にも容易に対応できる検査システムを実現すること。【解決手段】 画像入力機能を装備したパソコンでラインイメージセンサの検出画像を取り込み、LANで接続した複数のパソコンに検出画像を転送して、複数のパソコンによるソフトウエア処理で、欠陥を抽出する。
Claim (excerpt):
検査対象物を照明する照明光学系と、前記検査対象物の光学像を形成する結像光学系と、該結像光学系によって結像された光学像をラインイメージセンサにより画像信号に変換する画像検出手段と、該画像検出手段の出力する画像信号を取り込む機能を有する画像入力用小型計算機と、該画像入力用小型計算機と通信ネットワークを介して接続され、前記画像入力用小型計算機に入力された検出画像データの転送を受けて、検出画像データから欠陥を抽出する処理を行う画像処理用小型計算機群と、検出視野を移動可能なXYステージと、該XYステージや照明の制御を司る検査シーケンス制御用小型計算機と、を具備したことを特徴とする外観検査システム。
IPC (3):
G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66
FI (4):
G01B 11/24 K ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F ,  G01N 21/88 645 B
F-Term (63):
2F065AA03 ,  2F065AA04 ,  2F065AA24 ,  2F065AA25 ,  2F065AA54 ,  2F065AA61 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC17 ,  2F065CC26 ,  2F065CC27 ,  2F065CC28 ,  2F065CC31 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF15 ,  2F065FF42 ,  2F065FF49 ,  2F065HH08 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065KK01 ,  2F065MM03 ,  2F065MM07 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ32 ,  2F065SS06 ,  2F065UU05 ,  2G051AA51 ,  2G051AA65 ,  2G051AB01 ,  2G051AB20 ,  2G051BA00 ,  2G051BA11 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA23 ,  4M106AA01 ,  4M106AA20 ,  4M106BA02 ,  4M106BA04 ,  4M106BA20 ,  4M106CA38 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB19 ,  4M106DB20 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • パターン検査装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-047310   Applicant:富士通株式会社
  • 産業機械用NC制御装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-206506   Applicant:森和之
  • 外観検査装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-114782   Applicant:株式会社東京精密
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