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J-GLOBAL ID：200903048819576627
金属部材の表面改質加工方法及び表面改質加工装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003305951
Publication number (International publication number)：2005076061
Application date： Aug. 29, 2003
Publication date： Mar. 24, 2005
Summary：
【課題】金属部材の表面改質加工を均一に万遍なく仕上げる表面改質電子ビーム加工装置及びこの装置を使用する表面改質加工方法を提供する。【解決手段】低圧ガス中の環状アノードと大面積カソード間で、アノードプラズマとカソードプラズマを有して発生するグロー放電を閉じ込め磁場中で発生させ、さらにカソードに高い、負の電圧パルスを印加することにより、プラズマを通路とする絞られない大面積の電子ビームパルスを発生させてワークに照射加工するもので、電子ビームの所定エネルギ密度以上の部分のみを照射させる形状、寸法の開口を有するマスクをワーク前面に設ける。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
電子ビーム発生部を収納する筒状のビームハウジング部と、電子ビームの照射を受けるワークを設置したコレクタを収納する加工処理ハウジング部とを気密に結合した真空ハウジングであって、所望の稀ガスが所定の低圧状態に制御保持され、
前記ビームハウジング部の加工処理ハウジング側に設けられる環状乃至は筒状アノードと、該アノードの軸線上のアノードの他側に設けられ電子を放出する大面積のカソードと、前記カソードとアノード間に形成される電子加速空間に前記アノードの軸線の周りを該軸線方向の磁力線で取り囲む磁場を形成するようにビームハウジング部外周に設けたソレノイドと、
前記電子加速空間に前記磁場を所定時間形成するように前記ソレノイドを所望の電流値で励磁する第1のパルス電源と、
前記低圧稀ガス空間中に設けられた前記カソードとアノード間に、前記第1のパルス電源によるソレノイドの励磁が所定の励磁状態になるのを待つか検出して印加され、電離によりアノードプラズマ及びカソードプラズマを形成させる第2のパルス電源と、
前記第2のパルス電源による電圧印加開始後の所望微小遅延時間後に、前記カソードに立ち上がり時間が短い負の高電圧を、電子ビーム照射時間となる所望の微小時間幅の間印加する第3のパルス電源と、
前記カソードプラズマ及びアノードプラズマを通してカソード側から供給される断面積の大きい電子ビームの、所定のエネルギ密度以上の領域部分のみを通過させる前記環状アノードの開口形状、寸法よりも小寸法のビーム通過開口を有するマスクがコレクタに設置したワークの前面に設けられることを特徴とする表面改質加工装置。
IPC (5)：
C21D1/09
, C21D9/00
, H01J37/30
, H01J37/32
, H05H1/24
C21D1/09 B
, C21D9/00 A
, C21D9/00 M
, H01J37/30 A
, H01J37/32
, H05H1/24
4K042AA12
, 4K042AA25
, 4K042BA03
, 4K042DA07
, 4K042DB05
, 4K042EA01
, 5C034AA01
, 5C034AB01
, 5C034AB03
, 5C034AB07
