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J-GLOBAL ID:200903048846282481

放電ガス処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 惠二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998308100
Publication number (International publication number):2000126544
Application date: Oct. 29, 1998
Publication date: May. 09, 2000
Summary:
【要約】【課題】 パルスコロナ放電と触媒の併用による相乗効果を発揮させて、除去対象物質の除去率を向上させる。【解決手段】 パルスコロナ放電による放電処理部6と触媒部10とを備えるパルスコロナ放電・触媒併用式の放電ガス処理装置において、除去対象物質を含むガス4が放電処理部6を通過する間に当該ガス4に加えられるパルスコロナ放電の放電ショット数を25以上にする。
Claim (excerpt):
不平等な電界を形成する対向電極を有していて両電極間に除去対象物質を含むガスが流される放電処理部と、この放電処理部の両電極間にパルス電圧を印加して前記ガス中でパルスコロナ放電を発生させるパルス電源と、前記放電処理部の下流側に設けられていて当該放電処理部から供給される前記ガス中の前記除去対象物質を触媒によって分解する触媒部とを備える放電ガス処理装置において、前記ガスが前記放電処理部を通過する間に当該ガスに加えられる前記パルスコロナ放電の放電ショット数を25以上にすることを特徴とする放電ガス処理方法。
IPC (4):
B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/52 ,  B01D 53/94
FI (4):
B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 126 ,  B01D 53/36 101 Z
F-Term (22):
4D002AA02 ,  4D002AA03 ,  4D002AA12 ,  4D002AA13 ,  4D002AB02 ,  4D002BA07 ,  4D002CA13 ,  4D002EA01 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GA03 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20 ,  4D048AA02 ,  4D048AA03 ,  4D048AA06 ,  4D048AA08 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048BD10 ,  4D048CC41 ,  4D048EA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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