Pat
J-GLOBAL ID:200903048855454147
CNT成長用基板及びCNTの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
畠山 文夫
, 小林 かおる
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007298517
Publication number (International publication number):2009119414
Application date: Nov. 16, 2007
Publication date: Jun. 04, 2009
Summary:
【課題】相対的に長さの長いCNTを連続成長させることが可能なCNT成長用基板及びこれを用いたCNTの製造方法を提供すること。【解決手段】ガス透過性を有する陽極酸化アルミナ膜12と、陽極酸化アルミナ膜12の表面に形成されたガス透過性を有する多孔質保護層16と、多孔質保護層16の上に担持されたCNT成長用触媒14とを備えたCNT成長用基板20、及び、このようなCNT成長用基板20の表面に炭素源を含む原料ガスを供給し、CNT成長用基板20の表面にCNT30を成長させる成長工程を備えたCNTの製造方法。CNT成長用基板は、陽極酸化アルミナ膜12を支持する多孔質基材22をさらに備えているものが好ましい。また、成長工程は、CNT成長用基板20のCNT成長用触媒14の担持面から裏面に向かって原料ガスを供給するものが好ましい。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ガス透過性を有する陽極酸化アルミナ膜と、
前記陽極酸化アルミナ膜の表面に形成されたガス透過性を有する多孔質保護層と、
前記多孔質保護層の上に担持されたCNT成長用触媒と
を備えたCNT成長用基板。
IPC (2):
FI (2):
B01J23/74 301M
, C01B31/02 101F
F-Term (35):
4G146AA11
, 4G146AB07
, 4G146AD20
, 4G146AD22
, 4G146AD28
, 4G146AD30
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB22
, 4G146BB23
, 4G146BC25
, 4G146BC28
, 4G146BC33B
, 4G146BC37B
, 4G146BC38B
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BB06B
, 4G169BC50B
, 4G169BC66B
, 4G169CB81
, 4G169DA05
, 4G169EA01Y
, 4G169EB19
, 4G169EE01
, 4G169FA01
, 4G169FA03
, 4G169FB02
, 4G169FB06
, 4G169FB11
, 4G169FB29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
カーボンナノチューブの製造方法及び製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-271292
Applicant:株式会社デンソー, 丸山茂夫
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カーボンナノチューブの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-357706
Applicant:株式会社デンソー
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