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J-GLOBAL ID:200903048866710110
高速原子線源及びこれを用いた加工装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995086542
Publication number (International publication number):1996255698
Application date: Mar. 17, 1995
Publication date: Oct. 01, 1996
Summary:
【要約】【目的】高速原子線のビーム照射量の照射面内での分布が均一であるような高速原子線源及びそれを用いた加工装置を提供する。【構成】複数の原子線放出孔8a,8b,8c,・・・が形成された電極3a,3b,3c,・・・を有し、上記電極の一方の空間で生成された高速原子線を上記原子線放出孔から放出するようにした高速原子線源であって、上記電極の複数の原子線放出孔は、その開口面積が電極面内において所定の分布態様になるように形成されている。
Claim (excerpt):
複数の原子線放出孔が形成された電極を有し、上記電極の一方の空間で生成された高速原子線を上記原子線放出孔から放出するようにした高速原子線源であって、上記電極の複数の原子線放出孔は、その開口面積が電極面内において所定の分布態様になるように形成されていることを特徴とする高速原子線源。
IPC (3):
H05H 3/02
, B23K 17/00
, G21K 5/04
FI (3):
H05H 3/02
, B23K 17/00
, G21K 5/04 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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高速原子線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-261231
Applicant:株式会社荏原製作所
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高速原子線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-097108
Applicant:株式会社荏原製作所
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高速原子線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-018575
Applicant:株式会社荏原製作所
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中性粒子ビーム照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-289178
Applicant:西川雅弘
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特開昭63-069127
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