Pat
J-GLOBAL ID:200903049126060771
電磁波遮蔽材料
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006221820
Publication number (International publication number):2007081389
Application date: Aug. 16, 2006
Publication date: Mar. 29, 2007
Summary:
【課題】高い可視透過率と高い電磁波遮蔽能と高い近赤外吸収性能を同時に満たし、且つ、高湿下保存しても近赤外吸収劣化の少ない、しかも耐光性劣化の少ない電磁波遮蔽材料を提供する。【解決手段】支持体上に近赤外線吸収染料を含む層及びハロゲン化銀粒子を含む層を設けた電磁波遮蔽材料用原版を作製し、該電磁波遮蔽材料用原版を露光、現像処理することにより金属銀部を形成させた電磁波遮蔽材料において、該近赤外線吸収染料が水分散性熱可塑性樹脂又は、オクタノール/水系分配係数の対数値(logP)が5.9〜11である高沸点溶剤に分散されていることを特徴とする電磁波遮蔽材料。【選択図】なし
Claim (excerpt):
支持体上に近赤外線吸収染料を含む層及びハロゲン化銀粒子を含む層を設けた電磁波遮蔽材料用原版を作製し、該電磁波遮蔽材料用原版を露光、現像処理することにより金属銀部を形成させた電磁波遮蔽材料において、該近赤外線吸収染料が水分散性熱可塑性樹脂又は、オクタノール/水系分配係数の対数値(logP)が5.9〜11である高沸点溶剤に分散されていることを特徴とする電磁波遮蔽材料。
IPC (4):
H05K 9/00
, B32B 7/02
, B32B 27/18
, G09F 9/00
FI (5):
H05K9/00 V
, B32B7/02 103
, B32B27/18 A
, B32B27/18 J
, G09F9/00 309A
F-Term (61):
4F100AA04B
, 4F100AA05C
, 4F100AH00B
, 4F100AH07B
, 4F100AH10B
, 4F100AJ09
, 4F100AK01B
, 4F100AK21
, 4F100AK22
, 4F100AK23
, 4F100AK25
, 4F100AK28
, 4F100AK42
, 4F100AK51
, 4F100AK73
, 4F100AL01
, 4F100AL05B
, 4F100AL05C
, 4F100AT00A
, 4F100AT00D
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100CA07
, 4F100CA13B
, 4F100DE01B
, 4F100DE01C
, 4F100EH46
, 4F100EH462
, 4F100EJ52
, 4F100EJ522
, 4F100EJ55
, 4F100EJ552
, 4F100EJ86
, 4F100EJ862
, 4F100GB41
, 4F100JB16B
, 4F100JD08
, 4F100JD08A
, 4F100JD08B
, 4F100JD08C
, 4F100JD10
, 4F100JD10B
, 4F100JM01B
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 5E321BB21
, 5E321BB35
, 5E321BB41
, 5E321GG05
, 5E321GH01
, 5G435AA09
, 5G435AA13
, 5G435AA17
, 5G435BB06
, 5G435GG11
, 5G435GG33
, 5G435KK07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-430085
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
近赤外線吸収フィルター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-303353
Applicant:東洋紡績株式会社
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