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J-GLOBAL ID：200903049244791365

フォトマスクの製造方法

Inventor： 渡▲辺▼ 晋生
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 梅田 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996340687
Publication number (International publication number)：1998186628
Application date： Dec. 20, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 遮光膜であるクロム膜厚をフォトマスク基板上において平坦にして、膜厚を均一にしないと遮光膜の透過率を均一にすることができず、コントラストが悪くなる。【解決手段】 透明基板1の一部を選択的にエッチングし、溝4を形成する。次に、該溝4が形成された透明基板1全面に遮光膜5を形成する。次に、該遮光膜5表面が平坦になるまで、CMP法により遮光膜5を研磨する。次に、透明基板1表面が露出するまでエッチバックすることにより、溝4内部にのみ遮光膜5を残す。

Claim (excerpt)：

透明基板と該透明基板上に形成された遮光膜からなるパターンとを有するフォトマスクの製造方法において、上記透明基板の一部を選択的にエッチングし、溝を形成する工程と、該溝が形成された透明基板全面に遮光膜を堆積する工程と、該遮光膜表面が平坦になるまで、該遮光膜を研磨する工程と、上記透明基板表面が露出するまでエッチバックすることにより、上記溝内部にのみ遮光膜を残す工程とを有することを特徴とする、フォトマスクの製造方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• フォトマスクの製造方法およびフォトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-088271   Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• マスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-100303   Applicant：新日本製鐵株式会社