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J-GLOBAL ID：200903049252620243

磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録装置

Inventor： 石川 晃 ,  城石 芳博 ,  細江 譲 ,  山本 朋生 ,  屋久 四男 ,  尾嵜 明 ,  加藤 義喜 ,  文岡 順
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993181015
Publication number (International publication number)：1995037237
Application date： Jul. 22, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】再生感度の高いMRヘッドに適応した、書きにじみ量が大きく、しかも高S/Nが得られる磁気記録媒体を提供すること。【構成】基板1上に、直接又は金属下地膜13、13’を介して、磁性膜15、15’を設け、磁性膜のヘッド走行方向に測定した残留磁化Br1とその総膜厚δとの積Br1δの値を5Gμm以上、180Gμm以下とし、かつ、Br1と、基板面に平行でヘッド走行方向と垂直の方向に測定した残留磁化Br2との比、Br1/Br2の値を1.3以上、3以下とした磁気記録媒体。

Claim (excerpt)：

非磁性基板と、該非磁性基板上に設けられた磁性膜とを有する磁気記録媒体において、上記磁性膜のヘッド走行方向に測定した残留磁化Br1とその総膜厚δとの積Br1δの値が5Gμm以上、180Gμm以下であり、かつ、Br1と、基板面に平行でヘッド走行方向と垂直の方向に測定した残留磁化Br2との比、Br1/Br2の値が1.3以上、3以下であることを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (3)：

G11B 5/66 ,  G11B 5/72 ,  G11B 5/85

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-194725
  
• 特開平4-368611
  
• 特開平4-212714
  
• 磁気デイスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-279265   Applicant：株式会社日立製作所