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J-GLOBAL ID:200903049259220852

粒子の単一層を形成させる方法及びそれにより形成される生成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 若林 忠 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1998508145
Publication number (International publication number):1999514755
Application date: Aug. 01, 1997
Publication date: Dec. 14, 1999
Summary:
【要約】本発明は、粒子や陥凹の不規則な、及び整然とした配列を作り出すための多数の、相互に関連する方法、並びにそのような配列や陥凹を含むフィルムを提供する。本発明は、粒子の不規則な、及び整然とした配列及びそれらから作られたフィルムにも関する。整然とした配列は、硬化性、固化性又は非硬化性/非固化性であってもよい強磁性流体組成物を使用することにより得られる。これらの配列及びフィルムは導線や端子領域の間の接触をもたらすための電子工学的用途に使用し得る導電性粒子を含有することができる。
Claim (excerpt):
(a) 少なくとも1つの寸法について少なくとも1マイクロメートルの粒子寸法を有する実在的粒子が中に含まれている硬化性組成物を基材の上に適用し、 (b) この実在的粒子含有硬化性組成物を、その最大の実在的粒子の高さの50%以下の厚さを有する硬化性組成物層の重合を行うのに充分な時間にわたり、その硬化性組成物の重合を行うのに適したエルネギー源にさらし、そして (c) 場合により未硬化の硬化性組成物を除去する各工程を含む、実在的粒子の単一層を形成する方法。
IPC (6):
G03F 7/038 ,  B32B 27/04 ,  C09J 7/00 ,  G03F 7/40 521 ,  H01R 11/01 ,  H01R 43/00
FI (6):
G03F 7/038 ,  B32B 27/04 ,  C09J 7/00 ,  G03F 7/40 521 ,  H01R 11/01 H ,  H01R 43/00 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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