ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004170815
Publication number (International publication number)：2005025178
Application date： Jun. 09, 2004
Publication date： Jan. 27, 2005
Summary：

【課題】微細なパターンを解像しようとするときのパターン倒れが抑制され、且つPED安定性、ラインエッジラフネス、プロファイル、感度、解像力が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)特定の部分構造を有し、融点が、35°C以上、又は沸点が、100°C/10mmHg以上の少なくともいずれかを満たす非イオン性環状化合物及び(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を少なくとも1個有し、融点が、35°C以上、又は沸点が、100°C/10mmHg以上の少なくともいずれかを満たす非イオン性環状化合物及び (D)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (12)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

レジスト塗布組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-276290 Applicant：日本合成ゴム株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト塗布液及びそれを用いたレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-338906 Applicant：東京応化工業株式会社

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