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J-GLOBAL ID：200903049339479725

光洗浄方法

Inventor： 長崎 修
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 米澤 明 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992120756
Publication number (International publication number)：1993311474
Application date： May. 13, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基材に付着した有機物を除去するとともに、濡れ性を高める。本発明は、電子材料の洗浄方法に関し、とくにリードフレームの銀めっき後の洗浄、シャドウマスク、フォトマスクブランクス、シリコンウエハ、液晶表示装置用の基板ガラス、透明電極を形成したガラス等の洗浄方法に関する。【構成】 リードフレーム、シャドウマスク、フォトマスクブランクス、シリコンウエハ、液晶表示装置用の基板ガラス、透明電極を形成したガラスなどに付着した有機物を、基材を水中に設けるかもしくは被処理面上に水の膜を形成した状態で紫外線を照射して、基材に付着した有機物の分解と濡れ性の改善を行う。【効果】 基材の酸化等を起こすことなく、有機物の除去と濡れ性を改善することができる。

Claim (excerpt)：

被洗浄物を紫外線を利用して洗浄する光洗浄方法において、被洗浄物を水中に設けるか、もしくは被洗浄物表面が水で被覆された状態で紫外線を照射することを特徴とする光洗浄方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 紫外線洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-098687   Applicant：株式会社オーク製作所