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J-GLOBAL ID：200903049359899615

光素子およびその製造方法

Inventor： 鈴木 英二 ,  山田 典義
Applicant, Patent owner： 株式会社応用光電研究室 ,  エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997216179
Publication number (International publication number)：1999064629
Application date： Aug. 11, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 基板としてポリイミド膜を用い該ポリイミド膜上に誘電体多層膜を具える光素子を歩留良く製造する。【解決手段】 後の処理にて剥離される仮下地11上に、誘電体多層膜13を形成する。この誘電体多層膜13を、密着性改良剤で処理する。この上に基板となるポリイミド膜17を形成する。その後、仮下地11を誘電体多層膜13から剥離する。

Claim (excerpt)：

基板としてポリイミド膜を用い該ポリイミド膜上に誘電体多層膜を具える光素子において、ポリイミド膜と誘電体多層膜との間に両者の密着性向上を図る中間膜を具えたことを特徴とする光素子。

IPC (3)：

G02B 5/28 ,  B29D 11/00 ,  B29K 79:00

FI (2)：

G02B 5/28 ,  B29D 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-310302
  
• 誘電体多層膜光フィルタおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-214240   Applicant：東海ゴム工業株式会社
• 特開平1-310302
  
• 特開平4-211203