エポキシ樹脂組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田中宏 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992009435
Publication number (International publication number)：1993194709
Application date： Jan. 22, 1992
Publication date： Aug. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、その成形物が低吸水率及び低応力化を図ることができるようなエポキシ樹脂組成物に関する。【構成】式(1)で示される共縮合ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルを少なくとも10重量%以上含有するエポキシ樹脂成分とエポキシ硬化剤を必須構成成分とするエポキシ樹脂組成物である。【化1】但し、Gは【化2】または【化3】の基を表し、R1は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数10以下の炭化水素基を表す。さらに、R1が芳香族炭化水素基を表す場合、そのR1中の水素原子が更にOGなる基、または(及び)ハロゲン原子で置換されていてもよい。Xはフェノールと芳香族ビニール化合物の等モル付加反応物のフェノール残基,Yは1価または(及び)2価フェノールの残基を表す。式(1)の末端残基はX,XおよびY,YまたはX,Yのいずれであっても良い。n、mは0または1〜9の整数を表し、n+mは10以下の整数である。さらに共縮合の結合様式はランダムでもブロックであっても良い。

Claim (excerpt)：

式(1)で示される共縮合ノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルを少なくとも10重量%以上含有するエポキシ樹脂成分とエポキシ硬化剤を必須構成成分とするエポキシ樹脂組成物。【化1】但し、Gは【化2】または【化3】の基を表し、R1は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数10以下の炭化水素基を表す。さらに、R1が芳香族炭化水素基を表す場合、そのR1中の水素原子が更にOGなる基、または(及び)ハロゲン原子で置換されていてもよい。Xはフェノールと芳香族ビニール化合物の等モル付加反応物のフェノール残基,Yは1価または(及び)2価フェノールの残基を表す。式(1)の末端残基はX,XおよびY,YまたはX,Yのいずれであっても良い。n、mは0または1〜9の整数を表し、n+mは10以下の整数である。さらに共縮合の結合様式はランダムでもブロックであっても良い。

IPC (4)：

C08G 59/24 NHQ , C08G 59/08 NHK , H01L 23/29 , H01L 23/31

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開昭55-160020
特開昭55-016047
エポキシ樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-302148 Applicant：東都化成株式会社

Show all

Return to Previous Page