磁気ディスク基板研磨用組成物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：矢口平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996136821
Publication number (International publication number)：1998008039
Application date： May. 30, 1996
Publication date： Jan. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高速研磨が可能であり、高密度記録が可能な磁気ディスクを得るのに適した研磨用組成物を提供する。【解決手段】水、αアルミナ研磨剤および研磨促進剤を含んでなる組成物であって、研磨促進剤がアセチルアセトン錯塩またはアセチルアセトン錯塩とアルミニウム塩からなる磁気ディスク研磨用組成物。

Claim (excerpt)：

水、αアルミナ及び研磨促進剤を含んでなる組成物であって、該研磨促進剤がアセチルアセトン錯塩であることを特徴とする磁気ディスク基板研磨用組成物。

IPC (4)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (4)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , G11B 5/84 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-034177 Applicant：昭和電工株式会社
特開平4-363385
特開平3-256665

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