Pat

J-GLOBAL ID：200903049527691537

ろ過膜の洗浄方法

Inventor： 重田 公成 ,  北見 勝信 ,  横井 生憲
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002241036
Publication number (International publication number)：2004074091
Application date： Aug. 21, 2002
Publication date： Mar. 11, 2004
Summary：

【課題】通常運転時における処理水質の悪化を防ぐことができるろ過膜の洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄液を限外ろ過膜分離装置5に供給し、限外ろ過膜に透過させて洗浄を行うにあたって、膜間差圧を、通常運転時の膜間差圧以上となるように設定する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

洗浄液を用いてろ過膜を洗浄する方法であって、洗浄液をろ過膜に透過させるにあたって、膜間差圧を、通常運転時の膜間差圧以上となるように設定することを特徴とするろ過膜の洗浄方法。

IPC (2)：

B01D65/06 ,  B01D65/02

FI (3)：

B01D65/06 ,  B01D65/02 ,  B01D65/02 500

F-Term (25)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA19 ,  4D006KA01 ,  4D006KA33 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KC20 ,  4D006KD11 ,  4D006KD12 ,  4D006KD14 ,  4D006KD17 ,  4D006KD28 ,  4D006KE06Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA04 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC26 ,  4D006MC62 ,  4D006PB06 ,  4D006PC02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ろ過膜モジュールの再生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-057673   Applicant：ダイセル化学工業株式会社, ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社
• 外圧型中空膜モジユールの運転方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-138349   Applicant：日東電工株式会社
• 流量および圧力変動による内圧型除濁用膜モジュールの逆洗方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-357602   Applicant：株式会社荏原製作所