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J-GLOBAL ID：200903049567029209

機能デバイスとその製造方法、垂直磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び情報処理装置

Inventor：
安居 伸浩

About 安居 伸浩

, 
福谷 和彦

About 福谷 和彦

, 
田 透

About 田 透


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003068509
Publication number (International publication number)：2004237429
Application date： Mar. 13, 2003
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：
【課題】孔を有する構造体(多孔質体)に機能性材料を充填して形成される機能デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】柱状の部材と該柱状の部材を取り囲む領域を含む構造体を用意する工程、該構造体から該柱状の部材を除去して多孔質体を形成する工程、及び該多孔質体に機能性材料を充填する工程を有する機能デバイスの製造方法。前記構造体は、第1の材料を含み構成される前記柱状の部材が、第2の材料を含み構成される前記領域に取り囲まれており、且つ該構造体には該第2の材料が、該第1の材料と第2の材料の全量に対して20atomic%以上70atomic%以下の割合で含まれている。前記第1の材料がアルミニウムであり、前記第2の材料がシリコンあるいはシリコンとゲルマニウムの混合物である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
柱状の部材と該柱状の部材を取り囲む領域を含む構造体を用意する工程、該構造体から該柱状の部材を除去して多孔質体を形成する工程、及び該多孔質体に機能性材料を充填する工程を有することを特徴とする機能デバイスの製造方法。
IPC (12)：
B82B1/00 ,  C22C5/04 ,  C22C19/00 ,  C22C28/00 ,  C22C38/00 ,  G11B5/65 ,  G11B5/667 ,  G11B5/738 ,  G11B5/84 ,  H01F10/16 ,  H01L27/10 ,  H01L29/06
FI (12)：
B82B1/00 ,  C22C5/04 ,  C22C19/00 H ,  C22C28/00 B ,  C22C38/00 303A ,  G11B5/65 ,  G11B5/667 ,  G11B5/738 ,  G11B5/84 Z ,  H01F10/16 ,  H01L27/10 451 ,  H01L29/06 601D
F-Term (28)：
5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006BB09 ,  5D006CA01 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA02 ,  5D006EA03 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112BD03 ,  5D112BD05 ,  5D112EE02 ,  5D112FA04 ,  5D112GA05 ,  5E049AA01 ,  5E049AA04 ,  5E049BA08 ,  5F083FZ01 ,  5F083JA36 ,  5F083JA37 ,  5F083JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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